Taille du marché de la lithographie EUV, analyse des actions et de l'industrie, par équipement (source lumineuse, optique, masque et autres), par l'utilisateur final (fabricant de l'appareil intégré et fonderie) et prévisions régionales, 2025 - 2032

ATTRIBUT 

DÉTAILS

Période d'étude

2019-2032

Année de base

2024

Année estimée

2025

Période de prévision

2025-2032

Période historique

2019-2023

Taux de croissance

TCAC de 10,3% de 2025 à 2032

Unité

Valeur (milliards USD)

Segmentation

Par équipement

• Source légère
• Optique
• Masque
• D'autres (miroir, etc.)

Par l'utilisateur final

• Fabricant d'appareils intégrés
• Fonderie

Par région

• Amérique du Nord (par équipement, utilisateur final et pays)
  • NOUS.
  • Canada
  • Mexique
• Amérique du Sud (par équipement, utilisateur final et pays)
  • Brésil
  • Argentine
  • Reste de l'Amérique du Sud
• Europe (par équipement, utilisateur final et pays)
  • Allemagne
  • France
  • Italie
  • Espagne
  • Russie
  • Benelux
  • Nordique
  • Reste de l'Europe
• Moyen-Orient et Afrique (par équipement, utilisateur final et pays)
  • Turquie
  • Israël
  • GCC
  • Afrique du Sud
  • Afrique du Nord
  • Reste du Moyen-Orient et de l'Afrique
• Asie-Pacifique (par équipement, utilisateur final et pays)
  • Chine
  • Inde
  • Japon
  • Corée du Sud
  • Asean
  • Océanie
  • Reste de l'Asie-Pacifique

Les entreprises profilées dans le rapport

ASML (Pays-Bas), Samsung Electronics Co. Ltd. (Corée du Sud), Canon Inc. (Japon), KLA Corporation (États-Unis), NTT Advanced Technology Corporation (Japon), Nikon Corporation (Chine), Zeiss Group (Allemagne), Advantest Corporation (Japon), Suss Microtec SE (Allems)