Taille, part et analyse de l’industrie du marché de la lithographie EUV, par équipement (source de lumière, optique, masque et autres), par utilisateur final (fabricant d’appareils intégrés et fonderies) et prévisions régionales, 2026-2034

ATTRIBUT 

DÉTAILS

Période d'études

2021-2034

Année de référence

2025

Année estimée

2026

Période de prévision

2026-2034

Période historique

2021-2024

Taux de croissance

TCAC de 8,28 % de 2026 à 2034

Unité

Valeur (en milliards USD)

Segmentation

Par équipement

• Source de lumière
• Optique
• Masque
• Autres (Miroir, etc.)

Par utilisateur final

• Fabricant d'appareils intégrés
• Fonderies

Par région

• Amérique du Nord (par équipement, utilisateur final et pays)
  • NOUS.
  • Canada
  • Mexique
• Amérique du Sud (par équipement, utilisateur final et pays)
  • Brésil
  • Argentine
  • Reste de l'Amérique du Sud
• Europe (par équipement, utilisateur final et pays)
  • Allemagne
  • France
  • Italie
  • Espagne
  • Russie
  • Benelux
  • Nordiques
  • Reste de l'Europe
• Moyen-Orient et Afrique (par équipement, utilisateur final et pays)
  • Turquie
  • Israël
  • CCG
  • Afrique du Sud
  • Afrique du Nord
  • Reste du Moyen-Orient et Afrique
• Asie-Pacifique (par équipement, utilisateur final et pays)
  • Chine
  • Inde
  • Japon
  • Corée du Sud
  • ASEAN
  • Océanie
  • Reste de l'Asie-Pacifique

Entreprises présentées dans le rapport

ASML (Pays-Bas), Samsung Electronics Co. Ltd. (Corée du Sud), Canon Inc. (Japon), KLA Corporation (États-Unis), NTT Advanced Technology Corporation (Japon), Nikon Corporation (Chine), ZEISS Group (Allemagne), ADVANTEST CORPORATION (Japon), SUSS MicroTec SE (Allemagne)