EUV-Lithographie-Marktgröße, Aktien- und Industrieanalyse, nach Geräte (Lichtquelle, Optik, Maske und andere), nach Endbenutzer (Hersteller von integrierter Geräte und Gießereien) und regionale Prognose, 2025-2032

ATTRIBUT 

Details

Studienzeitraum

2019-2032

Basisjahr

2024

Geschätztes Jahr

2025

Prognosezeitraum

2025-2032

Historische Periode

2019-2023

Wachstumsrate

CAGR von 10,3% von 2025 bis 2032

Einheit

Wert (USD Milliarden)

Segmentierung

Durch Ausr         - stung

• Lichtquelle
• Optik
• Maske
• Andere (Spiegel usw.)

Von Endbenutzer

• Hersteller integrierter Geräte
• Gießereien

Nach Region

• Nordamerika (durch Ausr         - stung, Endbenutzer und Land)
  • UNS.
  • Kanada
  • Mexiko
• S         - damerika (durch Ausr         - stung, Endbenutzer und Land)
  • Brasilien
  • Argentinien
  • Rest S         - damerikas
• Europa (durch Ausr         - stung, Endbenutzer und Land)
  • Deutschland
  • Frankreich
  • Italien
  • Spanien
  • Russland
  • Benelux
  • Nordics
  • Rest Europas
• Naher Osten & Afrika (durch Ausr         - stung, Endbenutzer und Land)
  • Truthahn
  • Israel
  • GCC
  • S         - dafrika
  • Nordafrika
  • Rest des Nahen Ostens und Afrikas
• Asien-Pazifik (durch Ausr         - stung, Endbenutzer und Land)
  • China
  • Indien
  • Japan
  • S         - dkorea
  • ASEAN
  • Ozeanien
  • Rest des asiatisch -pazifischen Raums

Unternehmen, die im Bericht vorgestellt wurden

ASML (Niederlande), Samsung Electronics Co. Ltd. (S         - dkorea), Canon Inc. (Japan), KLA Corporation (USA), NTT Advanced Technology Corporation (Japan), Nikon Corporation (China), Zeiss Group (Deutschland), Vorteil (Japan), SUSS Microtec SE (Deutschland)