EUV-Lithographie-Marktgröße, Anteil und Branchenanalyse, nach Ausrüstung (Lichtquelle, Optik, Maske und andere), nach Endbenutzer (Hersteller integrierter Geräte und Gießereien) und regionale Prognose, 2026 – 2034

ATTRIBUT 

DETAILS

Studienzeit

2021-2034

Basisjahr

2025

Geschätztes Jahr

2026

Prognosezeitraum

2026-2034

Historische Periode

2021-2024

Wachstumsrate

CAGR von 8,28 % von 2026 bis 2034

Einheit

Wert (Milliarden USD)

Segmentierung

Nach Ausr         - stung

• Lichtquelle
• Optik
• Maske
• Andere (Spiegel usw.)

Vom Endbenutzer

• Hersteller integrierter Geräte
• Gießereien

Nach Region

• Nordamerika (nach Ausr         - stung, Endbenutzer und Land)
  • UNS.
  • Kanada
  • Mexiko
• S         - damerika (nach Ausr         - stung, Endbenutzer und Land)
  • Brasilien
  • Argentinien
  • Rest von S         - damerika
• Europa (nach Ausr         - stung, Endbenutzer und Land)
  • Deutschland
  • Frankreich
  • Italien
  • Spanien
  • Russland
  • Benelux
  • Nordische Länder
  • Restliches Europa
• Naher Osten und Afrika (nach Ausr         - stung, Endbenutzer und Land)
  • Truthahn
  • Israel
  • GCC
  • S         - dafrika
  • Nordafrika
  • Rest des Nahen Ostens und Afrikas
• Asien-Pazifik (nach Ausr         - stung, Endbenutzer und Land)
  • China
  • Indien
  • Japan
  • S         - dkorea
  • ASEAN
  • Ozeanien
  • Rest des asiatisch-pazifischen Raums

Im Bericht vorgestellte Unternehmen

ASML (Niederlande), Samsung Electronics Co. Ltd. (S         - dkorea), Canon Inc. (Japan), KLA Corporation (USA), NTT Advanced Technology Corporation (Japan), Nikon Corporation (China), ZEISS Group (Deutschland), ADVANTEST CORPORATION (Japan), SÜSS MicroTec SE (Deutschland)